RELIEVE-HF試験より、心不全患者において経カテーテル的Ventura心房間シャント（IAS）デバイスの植込みは、プラセボ手技と比較して2年までに症状や予後を改善させることはなかったが、LVEFの低下した患者においては有益である可能性が示唆されたことが、アメリカ、Icahn School of Medicine at Mount SinaiのGregg Stone氏により、ACC.24のLate-Breaking Clinical Trialsセッションで発表された。
RELIEVE-HF試験より、心不全患者において経カテーテル的Ventura心房間シャント（IAS）デバイスの植込みは、プラセボ手技と比較して2年までに症状や予後を改善させることはなかったが、LVEFの低下した患者においては有益である可能性が示唆されたことが、アメリカ、Icahn School of Medicine at Mount SinaiのGregg Stone氏により、ACC.24のLate-Breaking Clinical Trialsセッションで発表された。
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